正宇真空設(shè)備
Zhengyu vacuum EquipmentProfessional vacuum pump equipment and maintenance parts service provider
規(guī)管中氣體再釋放對(duì)真空測(cè)量的影響 規(guī)管中氣體再釋放對(duì)真空測(cè)量的影響主要有以下兩種形式 (1)氣體的熱解吸對(duì)真空測(cè)量的影響。在熱陰極電離真空計(jì)規(guī)管中,高溫?zé)彡帢O本身就是 種氣源。它的高溫?zé)崃枯椛涞狡渌姌O和規(guī)管壁上時(shí),將引起氣體的熱解吸,此外,棚極接 收電子收集極收集離子,也會(huì)因發(fā)熱使氣體解吸。 為了消除熱解吸對(duì)真空測(cè)量的影響,必須對(duì)規(guī)管各電極和管壁進(jìn)行充分的加熱去氣(可采 用烘烤、電子轟擊、高頻加熱或歐姆加熱等)、尤其是在超高真空測(cè)量時(shí)必須嚴(yán)格去氣,否則 將產(chǎn)生很大的測(cè)量誤差 (2)氣體電解吸及光解吸對(duì)真空測(cè)量的影響。由于在電離計(jì)規(guī)管加速極上存在著氣體吸附 層,當(dāng)電子打在其表面時(shí)會(huì)使吸附層的氣體解吸或先在其表面將氣體電離后再以離子形式解吸 出來(lái)。這就是所謂的電子碰撞解吸效應(yīng),它是影響電離規(guī)測(cè)量下限的重要因素。 光解吸是指金屬表面受光輻射時(shí),其表面上的分子解吸和分解的現(xiàn)象。在超高真空測(cè)量時(shí)需要注意光解吸問(wèn)題 10.9.4.2電離計(jì)規(guī)管抽氣作用對(duì)真空測(cè)量的影響
A電清除拍氣 電子碰撞氣體分子使其電離并產(chǎn)生離子,具有一定能量(約100cV)的離子打到規(guī)管壁上 或被收集極接收。這些離子或被束縛在其表面上,或被埋入表層內(nèi)而被清除掉,這稱(chēng)為“電清 除”。束縛得最牢的離子,只有在300℃下烘烤才有可能再釋放。如果規(guī)管內(nèi)壁存在濺射的金 屬薄膜,則對(duì)氦氣(He)有強(qiáng)烈的抽氣作用 電清除抽氣的抽速(SE)與電子流、各電極電位、規(guī)管壁溫度以及有無(wú)磁場(chǎng)等因素有關(guān) 若電子流增大,離子流隨之呈線性增大,所以電清除的抽速與電子流亦近似的呈線性關(guān)系;若 柵極(加速極)電位改變,將引起電離幾率和電子能量改變,故電清除抽速也隨之改變;若有 磁場(chǎng)存在(如冷磁控規(guī)),因其電離效率高,所以電清除的抽速更大;規(guī)管壁溫度及其電位對(duì) 電清除抽氣的抽速也有很大的影響。規(guī)管壁溫度降低,會(huì)使電清除抽氣的抽速增大和被束縛的 分子再釋放速率下降。若管壁電位改變時(shí),也會(huì)使電清除抽氣的抽速變化,例如當(dāng)規(guī)管壁電位 與柵極等電位時(shí),其電清除抽氣的抽速是管壁與陰極等電位的五分之一。降低電子流和柵極電 位是減小電清除抽氣的重要方法
B化學(xué)清除抽氣 電離計(jì)規(guī)管對(duì)氮?dú)獾某闅庾饔幂^大,其原因是除了有電清除抽氣外,還有化學(xué)清除抽氣作用.化學(xué)清除抽氣有以下幾種 (1)化學(xué)活性氣體(如,H2、N2、CO2、CO等)在固體表面上的化學(xué)吸附效應(yīng):當(dāng) 表面形成吸附層時(shí),化學(xué)吸附效應(yīng)趨于飽和; 2)高溫鎢絲的氧化作用:氧與鎢作用生成三氧化鎢(WO),三氧化鎢蒸發(fā)沉積在規(guī)管壁上形成黑色膜,隨著熱陰極溫度的升高,此效應(yīng)增大 (3)氣體在高溫鎢絲表面上的熱分解:氫分子(H2)在高溫鎢絲表面上可分解為原子氫 (H),原子氫易被吸附在管壁上,在Tw=1475K時(shí),對(duì)氫的抽速S=0.1L/s;氧分子(O2) 也能在鎢絲表面上分解為氧原子(O),并吸附在規(guī)管壁上,在Tw=1700X時(shí)。對(duì)氧的抽速S=4×10-21./s。此效應(yīng)亦存在飽和現(xiàn)象