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        在黏滯流狀態(tài)下，分子間的頻繁碰撞使低溫泵的理論抽速不同于分子流條件下  的理論抽速。由于低溫表面和容器之間存在溫度梯度和壓力梯度，氣體分子在定向  力的作用下，氣體分子以高速連續(xù)流向低溫面，因而具有遠(yuǎn)大于分子流區(qū)域的抽  速，其最大值為
,=A.RT&/ 2  (2-39)
M(k+1  式中，k是氣體絕熱指數(shù)(k=Cn/c),其余符號意義同前。  計算表明，低溫泵在黏滯流范圍內(nèi)的抽速是分子流的三倍。一般情況下，低溫  泵都工作在分子流區(qū)域，只有打開閥門開始抽氣的瞬間才工作在黏滯流狀態(tài)。  2.4.4.5低溫泵抽速測量
低溫泵抽速測量我國至今還沒有制定測試標(biāo)準(zhǔn)。低溫泵的抽速測量的主要問題  是低溫板和測試罩壁之間是非等溫系統(tǒng)。摩爾研究了兩個無限平行平面之間分子流  狀態(tài)(圖2-49),平面1為氣源，平面2為低溫泵的冷凝板，他假設(shè)  ①兩板之間的距離遠(yuǎn)大于分子的平均直徑
②低溫板覆蓋一層冷凝物，冷凝層表面溫度為T2。  ③氣源板氣源分子質(zhì)量流率為w,它與冷凝物表面相碰撞時的黏滯概率為a,  沒有被捕獲的分子全被漫反射。
④漫反射離開冷凝表面的分子質(zhì)量流為(1-a)W1,并具有與T2溫度(即適  應(yīng)系數(shù)為1)相對應(yīng)的速度分布
⑤除反射的分子外，冷凝層蒸發(fā)的分子流為W,同樣具有溫度T2的速度
分布。  ⑥來自氣源的分子質(zhì)量流v1由氣源發(fā)射的分子流  W1和撞擊氣源表面的漫反射分子流w兩部分組成。質(zhì)  量流1具有對應(yīng)溫度T1的速度分布。  ⑦所有分子流的速度分布均遵守麥克斯韋爾速度  分布。  根據(jù)上述假設(shè)，可以把氣源與冷凝器間的氣體看作  是兩股做相對運動的氣流。w1是從氣源流向冷凝器，w2  是從冷凝器流向氣源。w1和w的速度分布分別與溫度
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